沉积速率对直流脉冲溅射钼薄膜微结构与光学性能的影响

作     者：赵娇玲 贺洪波 王虎 郭佳露 贺婷 Zhao Jiaoling;He Hongbo;Wang Hu;Guo Jialu;He Ting

作者机构：中国科学院上海光学精密机械研究所强激光重点材料实验室上海201800 中国科学院大学北京100049 

基　　金：国家国际科技合作专项项目(2012DFG51590) 

出 版 物：《光学学报》 (Acta Optica Sinica)

年 卷 期：2016年第36卷第9期

页      码：325-332页

摘      要：用脉冲直流磁控溅射方法在硅片衬底上制备了厚度相同的单层钼薄膜,结合台阶仪、X射线衍射仪、场发射扫描电镜、原子力学显微镜和紫外-可见分光光度计分别研究了不同沉积速率对钼薄膜微结构、表面形貌和光学性能的影响。掠入射X射线反射谱拟合的钼薄膜厚度与设计厚度一致,说明当前钼薄膜制备工艺成熟稳定。沉积速率通过改变薄膜生长模式与薄膜形核率影响钼薄膜表面形貌演化。随着沉积速率的增大,薄膜越来越致密,钼(110)面的衍射峰强度逐渐增大,平均晶粒尺寸增大,表面粗糙度先降低后增加。

主 题 词：薄膜 光学性能 材料制备与表征 其他性能 

学科分类：0808[工学-自动化类] 070207[070207] 0809[工学-计算机类] 07[理学] 08[工学] 0805[工学-能源动力学] 0803[工学-仪器类] 0702[理学-物理学类] 

核心收录：

D　O　I：10.3788/AOS201636.0931001

馆 藏 号：203189655...