看过本文的还看了

相关文献

该作者的其他文献

文献详情 >光调制技术及器件 收藏
光调制技术及器件

光调制技术及器件

出 版 物:《中国光学》 (Chinese Optics)

年 卷 期:1994年第8卷第2期

页      码:70-70页

摘      要:TN761 94021296MSLM调制组件的电光性能=The electrical andoptic properties of the modulation assemblyused in MSLM[刊,中]/梁振宪,侯洵(中科院西安光机所)//光子学报.-1993,22(4).-333~336对设计并制作的(MgF2+(ZrO2/SiO2)]膜系。LiNbO3·ITO/玻璃结构的MSLM用调制组件的综合电光性能进行了实验测定。结果表明,其反射半波电压VκR为1.2kV=0.1kV,反射率达99%,峰值次级电子发射系数为5.8。

主 题 词:电光性能 组件 调制技术 实验测定 光子学 半波电压 次级电子 反射率 发射系数 制作 

学科分类:080902[080902] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 

馆 藏 号:203192835...

读者评论 与其他读者分享你的观点

用户名:未登录
我的评分