单晶炉勾形磁场装置结构参数的分析与优化

作     者：高勇 李波 安涛 李守智 刘飞航 GAO Yong;LI Bo;AN Tao;LI Shou-zhi;LIU Fei-hang

作者机构：西安理工大学电子工程学院西安710048 

出 版 物：《人工晶体学报》 (Journal of Synthetic Crystals)

年 卷 期：2008年第37卷第3期

页      码：577-582页

摘      要：采用有限元法对203.2mm单晶炉(406.4mm坩埚)勾形磁场线圈匝数和线圈纵横向层数(纵横向层数比值)以及上下两线圈间距、磁屏蔽体的厚度以及几何结构和尺寸等结构参数对磁场强度Br的影响进行了模拟分析和优化选取。为203.2mm单晶炉勾形磁场装置结构设计提供了一种可靠的模拟新方法和具有指导意义的经验数据。

主 题 词：单晶炉 勾形磁场装置 结构参数 磁感应强度 

学科分类：07[理学] 070205[070205] 08[工学] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 0703[理学-化学类] 0702[理学-物理学类] 

核心收录：

D　O　I：10.3969/j.issn.1000-985X.2008.03.014

馆 藏 号：203194201...