用磁控溅射法制备软X射线多层膜

作     者：张俊平 马月英 高宏刚 陈斌 裴舒 吕俊霞 曹健林 

作者机构：中国科学院长春光学精密机械研究所应用光学国家重点实验室 

基　　金：国家自然科学基金及国家高技术863-410-3专题的资助 

出 版 物：《光学精密工程》 (Optics and Precision Engineering)

年 卷 期：1995年第3卷第1期

页      码：16-20页

摘      要：本文介绍用直流－射频平面磁控溅射法制备软ｘ射线多层膜的初步实验结果。在一定工艺条件下，采用计算机定时控制膜厚的方法，严格按照设计周期制备了多层膜样品，并给出了Ｘ射线衍射仪小角衍射的检测结果。

主 题 词：磁控溅射 软X射线多层膜 制备 

学科分类：08[工学] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 0803[工学-仪器类] 

核心收录：

馆 藏 号：203197860...