FePt薄膜氧化的电子显微学表征

作     者：胡学让 吴培文 袁俊 HU Xue-rang;WU Pei-wen;YUAN Jun

作者机构：清华大学材料科学与工程系北京100084 

基　　金：科技部863纳米专项项目支持(No 2002AA302103) 

出 版 物：《电子显微学报》 (Journal of Chinese Electron Microscopy Society)

年 卷 期：2005年第24卷第2期

页      码：85-90页

摘      要：电子束蒸发沉淀法制备的Fe Pt多层膜在N2气氛下经550℃退火可获得有序L10 FePt相。截面样品形貌像表明退火600s的样品形成了双层结构,样品选区电子衍射谱、X射线能谱及电子能量损失谱中O K边吸收峰形状分析表明该样品的上层结构主要为尖晶石相Fe3O4的氧化产物,下层结构主要为有序L10 FePt相。由于Fe的选择性氧化造成FePt相的成分偏离设计要求,从而对FePt超薄膜的磁学性能产生很大影响。

主 题 词：电子显微学 薄膜氧化 电子能量损失谱 表征 电子束蒸发 电子衍射谱 X射线能谱 选择性氧化 双层结构 氧化产物 尖晶石相 设计要求 磁学性能 多层膜 沉淀法 样品 分析表 吸收峰 FeP 超薄膜 t相 有序 退火 N2 截面 

学科分类：07[理学] 070205[070205] 08[工学] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 0702[理学-物理学类] 

核心收录：

D　O　I：10.3969/j.issn.1000-6281.2005.02.001

馆 藏 号：203201862...