α-Si/Ni多层膜的制备及光电特性研究

作     者：王正昌 李燕卿 张硕 虎志明 吴兴惠 

作者机构：云南民族学院物理系 云南大学物理系 

出 版 物：《云南民族大学学报（自然科学版）》 (Journal of Yunnan Minzu University:Natural Sciences Edition)

年 卷 期：1998年第11卷第1期

页      码：33-37页

摘      要：简述用超高真空多靶磁控设备制取α－Ｓｉ／Ｎｉ多层膜，用ＸＰＳ和Ｒａｍａｎ谱对新研制的多层膜进行组份分析，结果表明α－Ｓｉ／Ｎｉ多层膜具有周期性成份调制结构．对其光偏振特性及横向光电特性进行了部分测试，结果表明入射线偏振光经α－Ｓｉ／Ｎｉ多层膜反射后出现旋光现象，按设计的电极进行测试，α－Ｓｉ／Ｎｉ多层膜具有横向光电效应．

主 题 词：α-Si/Ni多层膜 Raman光谱 XPS能谱 光偏振特性 横向光电效应 

学科分类：08[工学] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 

馆 藏 号：203203521...