工艺路线对TFT工厂能源消耗的影响

作     者：蒋婧思 李强 JIANG Jing-si LI Qiang

作者机构：中国电子工程设计院工艺所北京100142 

出 版 物：《液晶与显示》 (Chinese Journal of Liquid Crystals and Displays)

年 卷 期：2016年第31卷第11期

页      码：1055-1063页

摘      要：为了在TFT工厂的设计、建设及运营阶段采取有针对性的节能降耗措施,有效降低器件制备过程中的能耗,本文根据我院多年从事TFT生产线节能评估工作的经验数据,针对不同技术路线,选取具有代表性的TFT-LCD及AMOLED生产线,并对其能耗进行对比分析,以讨论不同技术路线对TFT-LCD及AMOLED显示器件生产能耗的影响。分析结果表明：阵列制备是最主要用能工序,其制备复杂程度可采用光罩次数（Mask）表征。随着光罩次数的增加,器件制造对电力、氮气、新鲜水等能源及耗能工质的需求呈急剧增长：采用10-13Mask技术的LTPS及AMOLED显示器件,其综合能耗达到a-Si及Oxide技术路线的约350%之多;在不同技术路线下,电力均为最主要的用能需求,其消耗量占总能耗的80%-87%。能耗的增加导致用能成本的大幅上升。在国家大力提倡绿色经济的环境下,建议各大厂商采取科学有效的能耗管控措施,以降低能源消耗及用能成本,实现产业的健康可持续发展。

主 题 词：TFT LTPS IGZO AMOLED 综合能耗 单位产品能耗 

学科分类：080901[080901] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 080401[080401] 0804[工学-材料学] 0803[工学-仪器类] 

D　O　I：10.3788/YJYXS20163111.1055

馆 藏 号：203208195...