离子束溅射制备低应力深紫外光学薄膜

作     者：才玺坤 张立超 时光 贺健康 武潇野 梅林 CAI Xi-kun;ZHANG Li-chao;SHI Guang;HE Jian-kang;WU Xiao-ye;Mei Lin

作者机构：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室超精密光学工程研究中心吉林长春130033 

基　　金：国家重大科技专项(02专项)基金资助项目(No.2009ZX02205)~~ 

出 版 物：《中国光学》 (Chinese Optics)

年 卷 期：2016年第9卷第6期

页      码：649-655页

摘      要：采用离子束溅射制备了Al F3、Gd F3单层膜及193 nm减反和高反膜系,分别使用分光光度计、原子力显微镜和应力仪研究了薄膜的光学特性、微观结构以及残余应力。在优选的沉积参数下制备出消光系数分别为1.1×10^(-4)和3.0×10^(-4)的低损耗AlF_3和GdF_3薄膜,对应的折射率分别为1.43和1.67,193 nm减反膜系的透过率为99.6%,剩余反射几乎为零,而高反膜系的反射率为99.2%,透过率为0.1%。应力测量结果表明,AlF_3薄膜表现为张应力而GdF_3薄膜具有压应力,与沉积条件相关的低生长应力是AlF_3和GdF_3薄膜残余应力较小的主要原因,采用这两种材料制备的减反及高反膜系应力均低于50 MPa。针对平面和曲率半径为240 mm的凸面元件,通过设计修正挡板,250 mm口径膜厚均匀性均优于97%。为亚纳米精度的平面元件镀制193 nm减反膜系,镀膜后RMS由0.177 nm变为0.219 nm。

主 题 词：离子束溅射 应力 光学特性 膜厚均匀性 

学科分类：08[工学] 0803[工学-仪器类] 0702[理学-物理学类] 

D　O　I：10.3788/CO.20160906.0649

馆 藏 号：203208289...