大口径平面抛光机精密转台设计

作     者：赵则祥 何鑫 于贺春 侯晓帅 赵惠英 王文博 ZHAO Ze-xiang;HE Xin;YU He-chun;HOU Xiao-shuai;ZHAO Hui-ying;WANG Wen-bo

作者机构：中原工学院机电学院河南郑州450007 

基　　金："高档数控机床及基础制造装备"科技重大专项资助项目(2013ZX04006011) 

出 版 物：《机械设计》 (Journal of Machine Design)

年 卷 期：2016年第33卷第12期

页      码：101-104页

摘      要：抛光是获得超精密表面的重要手段。在平面抛光过程中,抛光垫类型对应不同的抛光工艺参数,抛光垫的修整精度直接影响工件面形精度,转台对抛光垫的精度具有重要影响,因此,转台系统精度成为衡量一台平面抛光机床的重要技术指标。文中对适用于大口径平面抛光机的精密转台部件进行了优化设计,该转台具有高精度、高稳定性等特点。检测结果及实际应用表明,文中设计的精密数控转台能够满足大口径平面元件高精度、高效率抛光的需要。

主 题 词：平面抛光 精密数控转台 面形精度 抛光垫 

学科分类：080503[080503] 08[工学] 0805[工学-能源动力学] 0802[工学-机械学] 080201[080201] 

核心收录：

D　O　I：10.13841/j.cnki.jxsj.2016.12.022

馆 藏 号：203210366...