离子束辅助沉积技术制备HA/Ti植入材料的设计

作     者：王昌祥 陈治清 

作者机构：华西医科大学口腔医学院口腔材料研究室成都610041 

基　　金：国家863计划 

出 版 物：《生物医学工程学杂志》 (Journal of Biomedical Engineering)

年 卷 期：1999年第16卷第2期

页      码：140-142,146页

摘      要：羟基磷灰石（ＨＡ），由于具有良好的生物亲和性及与机体的骨性结合性，是金属植入材料的理想涂层材料。目前，主要采用等离子体喷涂、涂覆和烧结的方法将ＨＡ 涂覆在金属植入体表面或直接使用羟基磷灰石植入体用于临床的修复重建手术，但均因强度和涂层结合力不足，在应用中受到限制。采用离子束辅助沉积技术将离子注入与物理气相沉积相结合，进行钛及钛合金的表面处理，对制备ＨＡ／Ｔｉ植入体具有极大的优越性。本文报导离子束辅助沉积制备ＨＡ／Ｔｉ植入体的设计，并利用世界公认的Ｔｒｉｍ ９６ 程序对制备参数进行计算，为进一步的研究和应用奠定基础。

主 题 词：植入材料 离子束辅助沉积 羟基磷灰石 钛合金 

学科分类：08[工学] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 080502[080502] 

核心收录：

D　O　I：10.3321/j.issn:1001-5515.1999.02.004

馆 藏 号：203210501...