基于DMD光刻制作微柱透镜阵列分模曝光的研究

作     者：张恒煦 董连和 王丽 孙艳军 冷雁冰 吴博琦 李哲 刘顺瑞 无

作者机构：长春理工大学光电工程学院长春130022 

出 版 物：《真空科学与技术学报》 (Chinese Journal of Vacuum Science and Technology)

年 卷 期：2016年第36卷第12期

页      码：1441-1445页

摘      要：针对无掩模光刻技术制作微柱透镜阵列的面形精度问题,对曝光方式和掩模设计进行研究,采用一种分模曝光方法,包括图形分层,掩模设计,分层掩模灰度调制,分层曝光四个步骤。在曝光前,需要对二维掩模版图按设计结构高度进行分层,以实现单层掩模在抗蚀剂上的投影成像高度不超过物镜的焦深范围。基于数字微镜阵列对灰度掩模的空间调制原理,设计出匹配的分层掩模版图,给出了图形分层原则和方法以及模板设计的原理。实验结果表明:采用该方法制作微柱透镜阵列,面形平均误差为0.54μm,相比以往单模曝光平均误差值0.79μm,平均误差减小了0.25μm,该方法弥补了由物镜焦深限制所造成的技术问题,提高了曝光质量。

主 题 词：无掩模光刻 数字微镜 灰度掩模 微柱透镜阵列 分模曝光 

学科分类：0808[工学-自动化类] 070207[070207] 0809[工学-计算机类] 07[理学] 0817[工学-轻工类] 0806[工学-电气类] 08[工学] 0805[工学-能源动力学] 0703[理学-化学类] 0803[工学-仪器类] 0702[理学-物理学类] 

D　O　I：10.13922/j.cnki.cjovst.2016.12.17

馆 藏 号：203211090...