LICVD法纳米硅制备过程中的成核及生长

作     者：尹衍升 刘英才 李静 

作者机构：中国海洋大学材料学院青岛266003 

基　　金：教育部博士点基金(20020422001)资助项目 山东省重点基金(Z2002F02)资助项目 

出 版 物：《人工晶体学报》 (Journal of Synthetic Crystals)

年 卷 期：2004年第33卷第1期

页      码：1-5页

摘      要：自行设计制备了激光诱导化学气相沉积法(LICVD)纳米制粉装置,利用该装置制备的纳米硅粉其粒度波动在30～60nm之间。通过对不同反应气体流量条件下的激光能量阈值研究表明,随反应气体流量的增加,所需激光能量阈值大致成线性增加。利用透射电镜和高分辨电镜对其形貌进行了表征,并对其成核与生长进行了分析,在成核长大初期,晶核周围的Si原子浓度较高,纳米硅晶应以层状长大方式为主。当纳米晶中有螺型位错等晶体缺陷形成时,会为Si原子的"落座"提供生长所需的台阶源,晶粒将以螺旋状生长方式长大。在长大过程中,纳米晶会发生跳跃式长大现象。以跳跃方式长大的晶粒通常在两晶粒的结合面处伴有晶体缺陷发生或亚晶界产生。较低的反应气体流速条件下,纳米硅的择优生长方向为晶向;而在较高的反应气体流速条件下其择优生长方向变为晶向。

主 题 词：LICVD法 纳米硅 激光诱导化学气相沉积法 激光能量阈值 气体流量 亚晶界 气相成核率 晶粒 

学科分类：07[理学] 0817[工学-轻工类] 070205[070205] 08[工学] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 0703[理学-化学类] 0702[理学-物理学类] 

核心收录：

D　O　I：10.3969/j.issn.1000-985X.2004.01.001

馆 藏 号：203213666...