高集成度激光列阵的外腔工作参数稳定技术

作     者：蔡然 薛蔡 胡渝 CAI Ran;XUE Cai;HU Yu

作者机构：电子科技大学四川成都610054 中国工程物理研究院电子工程研究所四川绵阳621900 

基　　金：国家自然科学基金资助项目(60272006) 

出 版 物：《半导体光电》 (Semiconductor Optoelectronics)

年 卷 期：2007年第28卷第1期

页      码：19-22页

摘      要：匹配高系统集成度的半导体二极管激光列阵(DLA)多发光单元特性的高系统集成度外腔工作参数稳定技术,通过拾取外腔形变传感器的响应等运行状态监控参数,经映射处理等处理后,获取控制参数,适时调整基超模运行所需腔体参数等,反馈控制,使DLA稳定运行于基超模。求得系统控制参数与外腔等参数之间的关系,以及建立相应鲁棒控制模型,是随DLA及其应用具体需求设计控制系统的指导基础,实验表明,基于此优化设计的高密外腔形变传感控制系统,可精细传感控制外腔形变,稳定外腔工作参数,改善高集成度激光列阵系统稳定运行于基超模可用性和系统可靠性。

主 题 词：高集成度激光列阵系统 基超模 外腔 耦合 小尺度 工作参数稳定控制 

学科分类：0808[工学-自动化类] 080901[080901] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 080401[080401] 0804[工学-材料学] 0803[工学-仪器类] 

核心收录：

D　O　I：10.3969/j.issn.1001-5868.2007.01.005

馆 藏 号：203224566...