强激光打固体靶所致硬X射线屏蔽模拟研究

作     者：杨博 邱睿 路伟 武祯 李春艳 张辉 李君利 

作者机构：清华大学工程物理系粒子技术与辐射成像教育部重点实验室高能辐射成像重点学科实验室北京100084 军事医学科学院疾病预防控制所北京100071 同方威视技术股份有限公司北京100084 

基　　金：国家自然科学基金项目(11375103) 国家科技重大专项子课题(2013ZX06002001-007) 

出 版 物：《强激光与粒子束》 (High Power Laser and Particle Beams)

年 卷 期：2017年第29卷第7期

页      码：34-39页

摘      要：强激光与固体靶相互作用产生的硬X射线已被证实为一种新的电离辐射源,其辐射防护问题引起国内外相关领域的广泛关注。为了便于开展这类电离辐射源的屏蔽设计,研究了强激光打靶所致硬X射线在常用屏蔽材料中的剂量衰减曲线和十值层(TVL)。利用蒙特卡罗程序FLUKA建立了强激光打靶所致硬X射线的屏蔽计算模型,开发了专门的统计程序,解决了屏蔽层之间由于粒子反散射造成的重复统计问题,使得可以通过一次模拟得到不同屏蔽厚度下的光子剂量。计算结果表明:当电子温度为0.5~10 MeV时,X射线在混凝土中的十值层从24cm到56cm不等。其中X射线的十值层会随着电子温度的增加而增加,并逐渐趋于饱和。而对于铅屏蔽,除了第一个十值层(TVL1)外,平衡十值层随电子温度的变化较小,在4.7~5.4cm范围内。另外,当电子温度较高时,探测器到屏蔽体的距离不同会使得TVL1值存在明显的差异。

主 题 词：强激光 固体靶 X射线 屏蔽 蒙特卡罗 

学科分类：082704[082704] 0808[工学-自动化类] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 0827[工学-食品科学与工程类] 0702[理学-物理学类] 

核心收录：

D　O　I：10.11884/HPLPB201729.170006

馆 藏 号：203232640...