一种新型微变形镜键合技术

作     者：余洪斌 陈海清 竺子民 李俊 张大成 李婷 

作者机构：华中科技大学光电子工程系湖北武汉430074 北京大学微电子学研究所微米/纳米加工技术国家重点实验室北京10087 

出 版 物：《光电工程》 (Opto-Electronic Engineering)

年 卷 期：2004年第31卷第8期

页      码：12-14,22页

摘      要：对一种新型可变形反射镜加工中的硅-玻璃阳极键合工艺进行了研究。设计了一种通过导线将压焊点引至键合区的特殊结构,使得键合过程中台柱与驱动电极保持等电势,从而有效避免了电极和结构之间的相互作用所引入的缺陷,使得最终获得的驱动电极的有效面积接近100%。针对键合前后气体体积收缩导致的镜面凹陷问题,提出在玻璃上加工出贯穿器件的浅槽结构。实验结果表明,在380C,1atm的环境下施加-1000V电压进行阳极键合时,当浅槽深度大于200nm时,将获得较好的镜面质量。

主 题 词：变形镜 键合 静电力 

学科分类：070207[070207] 07[理学] 0702[理学-物理学类] 

核心收录：

D　O　I：10.3969/j.issn.1003-501X.2004.08.004

馆 藏 号：203232728...