金刚石膜压力传感器的优化设计(Ⅱ)

作     者：杨保和 孙以才 孙伟 李燕 潘鹏 常明 

作者机构：河北工业大学天津300130 天津理工学院天津300191 

基　　金：国家"863"计划资助项目(863 715 002 0060) 国家教育部重点基金资助项目(00134) 天津市自然科学基金重点资助项目(003800211) 

出 版 物：《光电子．激光》 (Journal of Optoelectronics·Laser)

年 卷 期：2003年第14卷第7期

页      码：665-668页

摘      要：金刚石膜压力传感器是在本征金刚石膜片上沉积4个掺杂金刚石膜压敏电阻,4个压敏电阻所在部位的膜厚度是压敏电阻和本征金刚石膜片厚度相加,它不同于利用扩散掺杂工艺形成的硅压力传感器,后者的4个掺杂压敏电阻和本征硅组成一个均匀的平面。我们发现,压敏电阻的形状对承载膜应力、应变分布及承压强度至关重要,提出了电阻条圆角设计方案,从而优化了电阻条形状及长、宽、厚尺寸设计,获得了具有高承压强度、输出稳定性好的金刚石膜压力传感器。

主 题 词：金刚石膜片 压力传感器 压敏电阻 承载膜 应变分布 圆角电阻 

学科分类：0808[工学-自动化类] 0809[工学-计算机类] 080202[080202] 08[工学] 0802[工学-机械学] 

核心收录：

D　O　I：10.3321/j.issn:1005-0086.2003.07.001

馆 藏 号：203232747...