热蒸发HfO_2薄膜光学常数表征

作     者：常艳贺 惠冰 张静 冯时 赵群 CHANG Yanhe HUI Bing ZHANG Jing FENG Shi ZHAO Qun

作者机构：长春理工大学光电工程学院长春130022 

基　　金：长春理工大学青年科学基金项目(XQNJJ-2015-05) 

出 版 物：《长春理工大学学报（自然科学版）》 (Journal of Changchun University of Science and Technology(Natural Science Edition))

年 卷 期：2017年第40卷第3期

页      码：18-21,37页

摘      要：薄膜材料库中的光学常数与实际制备的相比有很大差别,精确求解在特定工艺条件下的光学常数对设计和制备多层薄膜具有重要意义。在熔融石英(JGS1)基底上,采用热蒸发沉积方法制备了厚度为330nm的单层HfO_2薄膜,利用分光光度计测量薄膜的透射率和反射率,并采用包络法和光度法分别计算得到230nm^800nm范围内折射率n和消光系数k的色散曲线。两种方法确定的HfO_2薄膜厚度分别为331.22nm和331.03nm,两者偏差为0.057%;在266nm处两种方法确定的折射率相差0.011,消光系数相差10-5量级。结果表明,运用包络法和光度法确定HfO_2薄膜光学常数的拟合结果吻合较好,能够相互验证且避免了单一方法求解过程中所产生的误差。

主 题 词：薄膜 光学常数 包络法 光度法 HfO2 

学科分类：08[工学] 0803[工学-仪器类] 

D　O　I：10.3969/j.issn.1672-9870.2017.03.005

馆 藏 号：203233896...