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三波长光干涉法测量磁盘/磁头纳米级气膜厚度

三波长光干涉法测量磁盘/磁头纳米级气膜厚度

作     者:王红志 黄平 Wang Hongzhi;Huang Ping

作者机构:华南理工大学机械工程学院 

基  金:国家重点基础研究发展计划资助项目(2003CB716205) 

出 版 物:《润滑与密封》 (Lubrication Engineering)

年 卷 期:2006年第31卷第8期

页      码:8-10,14页

摘      要:给出三波长光干涉测量纳米级薄膜厚度的方法。通过对某负压磁头/玻璃盘空气薄膜的测试表明:三波长光干涉法具有精度高、容易实施等优点,能够满足磁盘/磁头润滑副设计、制造及研究的需要。

主 题 词:三波长 光干涉法 薄膜测量 磁头 

学科分类:08[工学] 080203[080203] 0802[工学-机械学] 

D O I:10.3969/j.issn.0254-0150.2006.08.003

馆 藏 号:203233910...

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