平面光学元件研磨抛光磨粒运动轨迹曲率研究

作     者：杨晓京 李明 YANG Xiaojing;LI Ming

作者机构：昆明理工大学机电工程学院昆明650500 

基　　金：国家自然科学基金资助项目(51365021) 

出 版 物：《光学技术》 (Optical Technique)

年 卷 期：2017年第43卷第4期

页      码：289-293页

摘      要：为提高研磨抛光加工表面质量,利用Matlab软件编制程序对不同参数下轨迹曲线曲率进行计算分析。结果表明,转速比对磨粒运动轨迹曲线曲率影响很大;相同转速比下的曲线曲率呈现周期性变化,曲率变化幅值很小;磨粒径向距离越大,曲率变化越剧烈,工件边缘处容易产生曲率突变;考虑到对磨粒径向距离的影响,偏心距不宜太大或太小。同时,磨粒初始角度对磨粒轨迹曲线曲率形状没有影响。该研究可为研磨抛光设备的设计提供理论指导。

主 题 词：运动轨迹 曲率 幅值 Matlab软件 

学科分类：08[工学] 0802[工学-机械学] 0702[理学-物理学类] 080201[080201] 

D　O　I：10.13741/j.cnki.11-1879/o4.2017.04.001

馆 藏 号：203236969...