真空电弧镀膜等离子体参数的测量

作     者：邹积岩 杨磊 程仲元 张汉明 

作者机构：华中理工大学电力系武汉430074 

基　　金：国家自然科学基金!59577005 

出 版 物：《微细加工技术》 (Microfabrication Technology)

年 卷 期：1997年第1期

页      码：70-75页

摘      要：本文介绍了真空电弧镀膜（VAD）环境下用法拉第杯分析等离子参数的实验系统。利用该系统，着重测量了气压、电流等参数对离子能量的影响，以及离子能量在固定位置的角分布。由测量结果，讨论了VAD中的复合离子参数值（Ep），在100A、0．66Pa、偏压-100V下，典型的最大离子能量为75eV，到达工件Ep值为8286V／atom。

主 题 词：真空电弧镀膜 等离子体 测量 

学科分类：080903[080903] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 080502[080502] 

馆 藏 号：203240037...