纳米光刻中莫尔对准模型与应用

作     者：周绍林 陈旺富 杨勇 唐小萍 胡松 马平 严伟 张幼麟 ZHOU Shao-lin;CHEN Wang-fu;YANG Yong;TANG Xiao-ping;HU Song;MA Ping;YAN Wei;ZHANG You-lin

作者机构：中国科学院光电技术研究所成都610209 中国科学院研究生院北京100039 乐山师范学院物理电子系四川乐山614004 

基　　金：国家自然科学基金(60706005,60776029) 863计划资助项目(2006AA03z355) 

出 版 物：《光电工程》 (Opto-Electronic Engineering)

年 卷 期：2008年第35卷第9期

页      码：27-31页

摘      要：在纳米光刻中,采用周期相差不大的两光栅分别作为掩模和硅片上的对准标记。当对准光路通过这两个标记光栅时受到两次调制,发生双光栅衍射及衍射光的干涉等复杂现象,最后形成有规律、且呈一定周期分布的莫尔条纹。周期相对光栅周期被大幅度放大,条纹移动可表征两标记的相对位移,具有很高探测灵敏度,可用于纳米级高精度对准。从傅里叶光学角度分析推导了对准应用中,两频率接近的光栅重叠时莫尔条纹振幅空间近似分布规律。并设计了一组对准标记,能继续将灵敏度提高一倍。通过仿真分析,从大致上定量地验证条纹复振幅分布的近似数学模型以及光刻对准应用中的条纹对准过程。

主 题 词：莫尔条纹对准 建模 纳米光刻 光栅标记 

学科分类：0808[工学-自动化类] 070207[070207] 0809[工学-计算机类] 07[理学] 08[工学] 0803[工学-仪器类] 0702[理学-物理学类] 

核心收录：

D　O　I：10.3969/j.issn.1003-501X.2008.09.006

馆 藏 号：203240341...