光谱匹配在X光机设计中的应用

作     者：喻春雨 常本康 刘铁兵 王世允 张俊举 Yu Chunyu;Chang Benkang;Liu Tiebing;Wang Shiyun;Zhang Junju

作者机构：北京大学深圳研究生院信息工程学院深圳518055 南京理工大学电子工程与光电子技术学院南京210094 

基　　金：南京市科技局基金(200308005)资助 

出 版 物：《光子学报》 (Acta Photonica Sinica)

年 卷 期：2006年第35卷第12期

页      码：1875-1877页

摘      要：将X射线成像技术和微光成像技术相结合,设计了组合新型的X射线影像增强系统·为了得到满意的成像性能,在设计前研究了Gd2O2S∶Tb和CaWO4两种X射线屏和SuperS251和SuperS252两种光电阴极之间的四种屏-光电阴极组合的光谱匹配特征,对应的光谱匹配系数值分别为0.644,0.761,0.369,0.571·以光谱匹配曲线及光谱匹配系数计算数据为理论依据,最终选择Gd2O2S∶TbX射线屏和SuperS252光电阴极的组合作为该新型X射线影像增强系统的主要器件,得到了成像性能令人满意的X光机·

主 题 词：X射线学 X光机 X射线像增强系统 X射线屏 微光像增强器 光谱响应 

学科分类：080901[080901] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 080401[080401] 0804[工学-材料学] 0803[工学-仪器类] 0702[理学-物理学类] 

核心收录：

馆 藏 号：203248258...