看过本文的还看了

相关文献

该作者的其他文献

文献详情 >声表面波MEMS器件的设计和制作工艺 收藏
声表面波MEMS器件的设计和制作工艺

声表面波MEMS器件的设计和制作工艺

作     者:高爱华 鲍帅 刘欢 GAO Ai-hua;BAO Shuai;LIU Huan

作者机构:西安工业大学光电微系统研究所西安710032 

出 版 物:《西安工业大学学报》 (Journal of Xi’an Technological University)

年 卷 期:2012年第32卷第10期

页      码:785-788,810页

摘      要:为了探索声表面波器件制作工艺,在压电器件工作原理的基础上,通过设计声表面波器件的工作频率、叉指宽度、间隙及对数等器件参数,绘制了掩模板,对制作的声表面波器件进行测试,制作了不同叉指对数、孔径长度、中心距离的电极.实验结果表明:以石英为基底,使用EPG533型光刻胶在前烘温度为105℃,曝光时间为8s,显影时间为50s时获得了较理想电极图形和稳定的实验参数.

主 题 词:声表面波 微机电系统技术 器件制作 器件测试 

学科分类:080903[080903] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 

D O I:10.3969/j.issn.1673-9965.2012.10.002

馆 藏 号:203257724...

读者评论 与其他读者分享你的观点

用户名:未登录
我的评分