双离子束溅射中红外SiO_2薄膜热稳定性研究（英文）

作     者：尚鹏 季一勤 赵道林 熊胜明 刘华松 李凌辉 田东 SHANG Peng;JI Yi-qin;ZHAO Dao-ling;XIONG Sheng-ming;LIU Hua-song;LI Ling-hui;TIAN Dong

作者机构：天津津航技术物理研究所天津市薄膜光学重点实验室天津300192 浙江大学现代光学仪器国家重点实验室杭州310027 山东省计量科学研究院济南250014 中国科学院光电技术研究所成都610209 

基　　金：The National Natural Science Foundation of China(No.61405145) Natural Foundation of TianJin(No.17JCQNJC01900) 

出 版 物：《光子学报》 (Acta Photonica Sinica)

年 卷 期：2017年第46卷第8期

页      码：102-108页

摘      要：通过双离子束溅射方法在蓝宝石、硅衬底上制备了单层SiO_2薄膜,分析了SiO_2薄膜残余应力、表面形貌、微观结构以及光学性能(可见-近红外0.4~1.2μm和中红外3~5μm波段)在400℃~1 000℃温度范围内的演化规律.研究结果表明:在400℃附近,SiO_2薄膜残余应力存在局部极小值;SiO_2薄膜光学性能的演化与膜层表面质量、内部残余应力及微观结构变化密切相关;经1 000℃高温处理后,蓝宝石窗口表面SiO_2薄膜红外透射性能仍能保持很好的稳定性,且膜层表面没有出现显著的气泡、开裂等损伤形貌.该研究结果可为恶劣环境下光学窗口头罩表面薄膜系统的设计提供指导.

主 题 词：薄膜 红外窗口 离子溅射 热稳定性 

学科分类：08[工学] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 0702[理学-物理学类] 

核心收录：

D　O　I：10.3788/gzxb20174608.0816003

馆 藏 号：203260884...