193nm光刻胶的研制

作     者：郑金红 黄志齐 陈昕 焦小明 杨澜 文武 高子奇 王艳梅 ZHENG Jin-hong;HUANG Zhi-qi;CHEN Xin;JIAO Xiao-ming;YANG Lan;WEN Wu;GAO Zi-qi;WANG Yan-mei

作者机构：北京化学试剂研究所北京100022 

基　　金：国家863项目(2002AA3Z1330) 

出 版 物：《感光科学与光化学》 (Photographic Science and Photochemistry)

年 卷 期：2005年第23卷第4期

页      码：300-311页

摘      要：从主体树脂的结构设计、单体的合成工艺、主体树脂的合成工艺、光致产酸剂的评价、配方研究等多个方面论述了193nm光刻胶的研制工艺,合成出了多种适用的单体及多种结构的主体树脂,进行了大量的配方研究,筛选出了最佳配方.研制出的样品经美国SEMATECH实验室应用评价其最佳分辨率为0.1μm,最小曝光量为26mJ/cm2,不但具有优异的分辨率和光敏性,而且还具有良好的粘附性和抗干法腐蚀性.

主 题 词：193nm 光刻胶 单体 主体树脂 光致产酸剂 配方 

学科分类：080903[080903] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 080502[080502] 

核心收录：

D　O　I：10.3969/j.issn.1674-0475.2005.04.009

馆 藏 号：203263548...