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高透明低方阻ITO-Ag-ITO柔性镀膜技术

高透明低方阻ITO-Ag-ITO柔性镀膜技术

作     者:胡云慧 李京增 余圣发 彭晶 苏丹丹 彭传才 李伟 蒋力 刘婧 HU Yun-hui;LI Jing-zeng;YU Sheng-fa;PENG Jing;SU Dan-dan;PENG Chuan-cai;LI Wei;JIANG Li;LIU Jing

作者机构:国防科技大学薄膜电子技术研究所湖南长沙410073 湖南三才光电信息材料有限公司湖南长沙410015 

出 版 物:《真空》 (Vacuum)

年 卷 期:2001年第38卷第2期

页      码:36-38页

摘      要:高透明低方阻 ITO- Ag- ITO柔性薄膜具有广泛的用途。本文介绍了膜系设计、工艺参数及控制。对设备结构也做了简要叙述。测试结果表明 ,ITO- Ag- ITO多层膜采用连续卷绕镀的方法生产 ,性能优异 ,工艺稳定 ,系统可靠。

主 题 词: ITO膜 柔性薄膜 连续卷绕镀膜 镀膜工艺 磁控溅射 

学科分类:08[工学] 0805[工学-能源动力学] 

D O I:10.3969/j.issn.1002-0322.2001.02.008

馆 藏 号:203265923...

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