磨粒分布对轨迹非均匀性影响的理论分析

作     者：刘冲 方从富 赵再兴 LIU Chong;FANG Cong-fu;ZHAO Zai-xing

作者机构：华侨大学机电及自动化学院福建厦门361021 

基　　金：国家自然科学基金(51675193) 福建省自然科学基金(2016J01235) 华侨大学研究生科研创新能力培育计划资助项目(1511303011) 

出 版 物：《超硬材料工程》 (Superhard Material Engineering)

年 卷 期：2017年第29卷第4期

页      码：27-31页

摘      要：轨迹分析方法是衡量研磨抛光过程中材料去除非均匀性的一种重要研究手段,通过对研磨抛光过程进行磨粒运动轨迹分析,可以为其工艺参数的优化选取提供重要参考依据。文章采用轨迹分析方法,基于轨迹分布非均匀性的量化指标,对研磨抛光工具表面的不同磨粒分布进行分析。从磨粒在工具表面的均匀、统计、周向、径向分布等角度揭示磨粒分布对轨迹分布非均匀性的影响规律,为研磨抛光过程中工具的磨粒分布设计和工艺参数优化提供理论依据。

主 题 词：轨迹分析 研磨抛光 非均匀性 磨粒分布 

学科分类：080706[080706] 08[工学] 0807[工学-电子信息类] 

D　O　I：10.3969/j.issn.1673-1433.2017.04.006

馆 藏 号：203269871...