不同微槽结构绝缘子真空沿面闪络特性

作     者：李逢 王勐 任靖 方东凡 康军军 徐乐 杨尊 Li Feng;Wang Meng;Ren Jing;Fang Dongfan;Kang Junjun;Xu Le;Yang Zun

作者机构：中国工程物理研究院流体物理研究所、脉冲功率科学与技术重点实验室四川绵阳621900 

基　　金：国家自然科学基金项目(50937004 51277168 51307155) 

出 版 物：《强激光与粒子束》 (High Power Laser and Particle Beams)

年 卷 期：2014年第26卷第4期

页      码：299-303页

摘      要：针对单极性脉冲电压下不同微槽结构绝缘子真空沿面闪络特性开展实验研究。根据二次电子运动特性,设计了多种微槽宽度,对比了微槽结构和平面结构的绝缘子耐压特性差异。槽宽为1mm的微槽样品耐压水平与平面结构样品耐压水平相当,槽宽小于1mm的样品组耐压水平均高于平面结构样品,最高电压提高倍数约为1.4,说明一定尺寸范围内的微槽设计将提高绝缘子真空耐压水平。通过电场强度计算分析微槽结构对二次电子运动的影响过程可知,较大的微槽宽度可使电子限制在槽内运动,较小的微槽宽度将抑制初始电子的发展,最终二者都能达到抑制闪络的目的。通过显微镜观测各组样品表面特征,材料表面微观缺陷将可能降低材料耐压水平。

主 题 词：真空沿面闪络 表面微槽 单极性脉冲电压 二次电子 

学科分类：0808[工学-自动化类] 080803[080803] 08[工学] 

核心收录：

D　O　I：10.11884/hplpb201426.045049

馆 藏 号：203273970...