磁控溅射制备导电织物的工艺优化

作     者：禚云彬 杜文琴 Zhou Yunbin;Du Wenqin

作者机构：广州南洋理工职业学院服装与设计学院广东广州510900 五邑大学纺织服装学院广东江门529000 

出 版 物：《产业用纺织品》 (Technical Textiles)

年 卷 期：2017年第35卷第9期

页      码：39-44页

摘      要：为制得具有更小电阻即更好导电性能的织物,利用磁控溅射技术,以铜作为靶材,在涤纶纺黏热轧非织造布上沉积铜薄膜制备导电织物,测试其表面电阻值。分别对进气量、溅射功率、工作气压、靶基距、溅射时间进行单因素试验,探究溅射工艺参数对试样导电性能的影响规律;然后在单因素试验基础上对试验进行二次正交旋转组合设计,对显著因素进行参数优化。得出:制备较低表面电阻值的导电织物的最优参数组合为进气量35.00 m L/min、溅射功率83.0 W、工作气压0.400 Pa、靶基距3.900 cm、溅射时间4.10 min,所得导电织物表面电阻值在1.000 0~100.000 0Ω。

主 题 词：磁控溅射 导电织物 优化 表面电阻 进气量 溅射功率 工作气压 靶基距 溅射时间 

学科分类：0821[工学-兵器类] 08[工学] 082101[082101] 

D　O　I：10.3969/j.issn.1004-7093.2017.09.009

馆 藏 号：203277748...