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Wei-Levoy纹理合成算法测试系统的设计与实现

Wei-Levoy纹理合成算法测试系统的设计与实现

作     者:刘景 

作者机构:河海大学常州校区常州213022 

基  金:河海大学青年科技基金资助项目 (0 4 B0 0 4 0 1) 

出 版 物:《电脑开发与应用》 (Computer Development & Applications)

年 卷 期:2005年第18卷第1期

页      码:24-26页

摘      要:Wei L evoy算法是一种典型的基于样图的纹理合成算法 ,此算法建立在马尔可夫随机场 (MRF)模型之上 ,具有合成质量较高、合成速度较快、能处理的纹理范围较宽等优点。描述了 Wei L evoy算法测试系统的设计和实现过程 。

主 题 词:纹理合成 算法 测试系统 输入参数 马尔可夫随机场 设计 MRF 优点 描述 典型 

学科分类:08[工学] 080203[080203] 0802[工学-机械学] 

D O I:10.3969/j.issn.1003-5850.2005.01.008

馆 藏 号:203278711...

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