对光电系统中的光学系统二次成像的分析计算

作     者：金宁 李力 曹红曲 明景谦 JIN Ning;LI Li;CAO Hong-qu;MING Jing-qian

作者机构：昆明物理研究所云南昆明650223 云南光学仪器厂云南昆明650114 成都奥晶科技有限责任公司四川成都611730 

出 版 物：《红外技术》 (Infrared Technology)

年 卷 期：2005年第27卷第5期

页      码：375-378页

摘      要：在光电成像系统中,二次成像对正常图像影响较大,轻者降低系统灵敏度,重者产生虚假信号, 影响观察。因此消除或降低二次成像对光电成像系统的影响,就成为光学设计的一个重要环节,使用光学设计软件CODEV可以对光学系统的二次成像进行分析和控制,确保光学系统本身的二次成像影响降到最低,满足系统使用要求。

主 题 词：二次成像 鬼像 像平面 

学科分类：0711[理学-心理学类] 07[理学] 08[工学] 080401[080401] 0804[工学-材料学] 080402[080402] 

D　O　I：10.3969/j.issn.1001-8891.2005.05.007

馆 藏 号：203279259...