基于线性模型的聚焦光学系统静态公差优化算法

作     者：王川川 岑兆丰 李晓彤 兰顺 杨瑶 陈灏 WANG Chuan-chuan;CEN Zhao-feng;LI Xiao-tong;LAN Shun;YANG Yao;CHEN Hao

作者机构：浙江大学现代光学仪器国家重点实验室杭州310027 

基　　金：国家自然科学基金(No.11275166)资助 

出 版 物：《光子学报》 (Acta Photonica Sinica)

年 卷 期：2017年第46卷第11期

页      码：168-175页

摘      要：为了实现聚焦光学系统中元件公差的自动分配,在实验室自主研发的OTS实际光线追迹软件平台构建公差分析模块,并据此完成元件公差的优化.依据光学矩阵理论,以公差的线性模型为基础,从评价函数、元件公差分配和反馈系数三个方面研究公差优化问题,结合蒙特卡罗方法和数值分析,有效的为各光学元件制定了合理的加工公差.采用结合元件敏感度的公差分配方式,根据现存的问题提出自适应优化法,并给出了相应实现方法.搭建了多元件双通光学系统验证实际情况中公差模型的正确性.实例计算表明,该方式使优化平均迭代次数下降了两轮,相比Zemax分析过程,在结果差异不大的情况下总运行时间下降了40%,表明了算法的合理性.整个分析流程对实际的光学系统加工装配具有一定参考价值.

主 题 词：光学设计 公差优化 光学矩阵 蒙特卡罗方法 自适应逼近 

学科分类：070207[070207] 07[理学] 08[工学] 0803[工学-仪器类] 0702[理学-物理学类] 

核心收录：

D　O　I：10.3788/gzxb20174611.1122001

馆 藏 号：203279647...