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提拉法生长高质量氟化镁单晶

提拉法生长高质量氟化镁单晶

作     者:徐超 张钦辉 刘晓阳 刘建强 史达威 张云天 甄西合 XU Chao;ZHANG Qin-hui;LIU Xiao-yang;LIU Jian-qiang;SHI Da-wei;ZHANG Yun-tian;ZHEN Xi-he

作者机构:北京首量科技股份有限公司北京101111 中国石油工程建设有限公司北京设计分公司北京100083 北京玻璃研究院北京101111 

出 版 物:《人工晶体学报》 (Journal of Synthetic Crystals)

年 卷 期:2017年第46卷第11期

页      码:2304-2305页

摘      要:设计了适合提拉法生长氟化镁单晶体的温场,采用提拉法成功生长出了直径100 mm的高质量氟化镁单晶。晶体内无气泡等宏观缺陷、无开裂;通过精密退火处理后,晶体透过率达到95%,平均应力双折射小于0.5 nm/cm。上述结果表明采用提拉法可以生长高质量的氟化镁单晶。

主 题 词:氟化镁单晶 提拉法 透过率 应力双折射 

学科分类:0817[工学-轻工类] 08[工学] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 0703[理学-化学类] 0702[理学-物理学类] 

核心收录:

D O I:10.3969/j.issn.1000-985X.2017.11.039

馆 藏 号:203279769...

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