基于DOE的TFT-LCD切换残影不良改善研究

作     者：陶雄 王云志 李莹 杨德波 何云川 TAO Xiong;WANG Yun-zhi;LI Ying;YANG De-bo;HE Yun-chuan

作者机构：重庆京东方光电科技有限公司重庆400714 

出 版 物：《液晶与显示》 (Chinese Journal of Liquid Crystals and Displays)

年 卷 期：2018年第33卷第2期

页      码：123-128页

摘      要：为降低TFT-LCD生产过程中切换残影不良的发生率,在考虑残影的主要影响因素基础上,采用实验设计(DOE)中的部分因子实验设计筛选该不良的显著因子,结合生产实际开展切换残影的改善研究工作。研究结果表明:DOE方法能有效辨别残影不良的显著因子有覆盖层(Over coater,OC)、重叠部分(ITO-Vcom Overlay,OL)和摩擦扭转力(Rubbing Torque),在实际生产的不良改善过程中,彩膜玻璃(Color Filter,CF)增加OC、加大OL和提高Rubbing Torque值均能有效降低残影不良发生率;研究结果为切换残影和改善TFT-LCD生产过程中其他不良提供了新思路。

主 题 词：切换残影 实验设计 覆盖层 重叠层 摩擦扭转力 

学科分类：080901[080901] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 

核心收录：

D　O　I：10.3788/YJYXS20183302.0123

馆 藏 号：203282353...