基于二维LDV低压流场速度测量的研究

作     者：邹胜 杨铁牛 黄尊地 吴宗跃 赵蕾蕾 Zou Sheng1,2, Yang Tieniu1,2, Huang Zundi3 , Wu Zongyue1,2, Zhao Leilei1,2

作者机构：五邑大学机电工程学院江门529020 江门市CAD/CAM工程技术研发中心江门529020 五邑大学轨道交通学院江门529020 

基　　金：国家科技重大专项资助项目(No.2011ZX02403-004) 

出 版 物：《真空科学与技术学报》 (Chinese Journal of Vacuum Science and Technology)

年 卷 期：2018年第38卷第3期

页      码：169-175页

摘      要：在半导体制造领域中,IC装备工艺腔室流场的均匀性决定镀膜的质量。本文运用二维激光多普勒测速仪(LDV)对真空腔室进行内流场测量,研究了在不同进气量、不同腔室压强下,腔室各平面流速的分布规律。研究表明,粒子浓度和背景噪声是影响腔室流速测量的两大关键因素,采用四种方法有效地降低了背景噪声对信号的干扰;通过大量实验得出了LDV有效测量腔室流速的压力范围,以及腔室压强、进气量与流速之间的关系;验证了腔室内二级匀气装置具有均匀布气的功能。研究结果能为IC装备的设计提供数据支持。

主 题 词：二维激光多普勒测速仪 真空腔室 粒子浓度 背景噪声 流速测量 

学科分类：08[工学] 

D　O　I：10.13922/j.cnki.cjovst.2018.03.01

馆 藏 号：203286658...