WO_3薄膜的磁控溅射法制备及电致变色性能

作     者：金良茂 汤永康 甘治平 李刚 金克武 杨勇 彭塞奥 王天齐 JIN Liangmao;TANG Yongkang;GAN Zhiping;LI Gang;JIN Kewu;YANG Yong;PENG Saiao;WANG Tianqi

作者机构：蚌埠玻璃工业设计研究院浮法玻璃新技术国家重点实验室蚌埠233000 

基　　金：安徽省重点研究与开发计划项目(1704a0902010 1704a0902014) 安徽省科技重大专项项目 

出 版 物：《材料导报》 (Materials Reports)

年 卷 期：2017年第31卷第A2期

页      码：140-144页

摘      要：采用直流反应磁控溅射制备了具有优异电致变色性能的WO3薄膜。通过对成膜参数的调控,实现了低功率和短溅射时间的制膜制度,获得了较宽的工艺范围。通过X射线衍射仪、场发射扫描电子显微镜、光学轮廓仪、电化学工作站、紫外-可见-红外分光光度计研究了薄膜的物相、微观结构、厚度、电致变色性能。研究表明:在溅射功率为50 W,溅射压强为2.0 Pa,反应气体流量为20 sccm时所制得的薄膜性能最为优越。所制备薄膜具有较短的变色响应时间和大幅度的变色调制幅度,其对可见光变色调制幅度达到80%。

主 题 词：WO3薄膜 电致变色 磁控溅射 

学科分类：08[工学] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 

核心收录：

馆 藏 号：203286853...