248 nm高反膜抗激光损伤性能

作     者：刘凤娟 周曙 秦娟娟 邵景珍 方晓东 Liu Fengjuan;Zhou Shu;Qin Juanjuan;Shao Jingzhen;Fang Xiaodong

作者机构：中国科学院安徽光学精密机械研究所安徽省光子器件与材料重点实验室合肥230031 

基　　金：国家自然科学基金项目(61205138) 

出 版 物：《强激光与粒子束》 (High Power Laser and Particle Beams)

年 卷 期：2014年第26卷第8期

页      码：77-80页

摘      要：用电子束蒸发法在熔融石英基底上沉积了适用于248nm的HfO2/SiO2高反膜,为提高其抗激光损伤能力,设计并制备了两种保护层,一种是在常规高反膜系的基础上镀制二分之一波长厚度的SiO2保护层,另一种是用Al2O3/MgF2做保护层。测试了3种高反膜样品的激光损伤情况,通过损伤形貌的变化分析了两种保护层使抗激光损伤能力提高的原因以及存在的问题。

主 题 词：248 nm KrF准分子激光器 高反膜 激光损伤 保护层 

学科分类：0808[工学-自动化类] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 0702[理学-物理学类] 

核心收录：

D　O　I：10.11884/hplpb201426.081015

馆 藏 号：203289387...