直流电弧等离子体喷射法生长大尺寸金刚石单晶

作     者：吕反修 黑立富 李成明 唐伟忠 李国华 郭辉 孙振路 LU Fan-xiu;HEI Li-fu;LI Cheng-ming;TANG Wei-zhong;LI Guo-hua;GUO Hui;SUN Zhen-lu

作者机构：北京科技大学北京100083 河北普莱斯曼金刚石科技有限公司石家庄510081 

出 版 物：《超硬材料工程》 (Superhard Material Engineering)

年 卷 期：2018年第30卷第2期

页      码：31-40页

摘      要：化学气相沉积(CVD)大尺寸高质量金刚石单晶是近年来在CVD金刚石膜研究领域所取得的重大研究进展之一。迄今为止的研究,绝大多数都是采用微波等离子体CVD,在高腔压下(10~30kPa)进行的。这是因为,在高腔压下,微波等离子体球急剧收缩,从而能够提供高质量金刚石外延生长所需要的高原子氢浓度。借助电弧放电的极高温和旋转电弧设计,直流电弧等离子体喷射(DC Arc Plasma Jet)能够在更大衬底面积范围提供可与之相比拟的原子氢浓度,因此有可能成为一种低成本的CVD金刚石外延生长方法。文章介绍了近年来采用高功率直流电弧等离子体喷射(DC Arc Plasma Jet)生长大尺寸、高质量金刚石单晶的初步研究结果,并介绍了已经取得的进展和存在的问题,以及对未来的展望。

主 题 词：金刚石单晶 外延生长 CVD DC Arc Plasma Jet 

学科分类：081702[081702] 08[工学] 0817[工学-轻工类] 

D　O　I：10.3969/j.issn.1673-1433.2018.02.009

馆 藏 号：203289481...