改进型异质栅对深亚微米栅长碳化硅MESFET特性影响

作     者：宋坤 柴常春 杨银堂 贾护军 陈斌 马振洋 

作者机构：西安电子科技大学微电子学院教育部宽禁带半导体材料与器件重点实验室西安710071 

基　　金：国家杰出青年基金(批准号:60725415) 国家部委预研项目(批准号:51308030201)资助的课题 

出 版 物：《物理学报》 (Acta Physica Sinica)

年 卷 期：2012年第61卷第17期

页      码：450-457页

摘      要：基于器件物理分析方法,结合高场迁移率、肖特基栅势垒降低、势垒隧穿等物理模型,分析了改进型异质栅结构对深亚微米栅长碳化硅肖特基栅场效应晶体管沟道电势、夹断电压以及栅下电场分布的影响.通过与传统栅结构器件特性的对比表明,异质栅结构在碳化硅肖特基栅场效应晶体管的沟道电势中引入了多阶梯分布,加强了近源端电场;另一方面,相比于双栅器件,改进型异质栅器件沟道最大电势的位置远离源端,因此载流子在沟道中加速更快,在一定程度上屏蔽了漏压引起的电势变化,更好抑制了短沟道效应.此外,研究了不同结构参数的异质栅对短沟道器件特性的影响,获得了优化的设计方案,减小了器件的亚阈值倾斜因子.为发挥碳化硅器件在大功率应用中的优势,设计了非对称异质栅结构,改善了栅电极边缘的电场分布,提高了小栅长器件的耐压.

主 题 词：碳化硅 肖特基栅场效应晶体管 异质栅 短沟道效应 

学科分类：080903[080903] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 080502[080502] 

核心收录：

馆 藏 号：203295963...