基于改进TOPSIS法的脉冲电沉积Ni-W-P镀层工艺优化

作     者：舒服华 SHU Fu-hua

作者机构：武汉理工大学机电工程学院武汉430070 

出 版 物：《唐山学院学报》 (Journal of Tangshan University)

年 卷 期：2018年第31卷第3期

页      码：40-45页

摘      要：以占空比、脉冲频率、电流密度、镀液温度为优化工艺参数,以镀层表面硬度、结合强度、磨损量、腐蚀速率为综合优化工艺目标,运用改进的TOPSIS法对脉冲电沉积Ni-P-W合金工艺参数进行优化。优化结果为:占空比30%、脉冲频率250Hz、电流密8A/dm2、镀液温度60℃。采用优化工艺参数进行脉冲电沉积Ni-P-W合金与最优试验设计组相比,表面硬度提高了8.14%,结合强度提高了5.32%,磨损量减小了4.26%,腐蚀速率减小了6.25%。

主 题 词：脉冲电沉积 Ni-P-W合金 工艺优化 改进的TOPSIS法 

学科分类：081702[081702] 08[工学] 0817[工学-轻工类] 

D　O　I：10.16160/j.cnki.tsxyxb.2018.03.009

馆 藏 号：203296187...