光电成像与器件

出 版 物：《中国光学》 (Chinese Optics)

年 卷 期：2003年第17卷第6期

页      码：47-48页

摘      要：TN386.5 2003064299低光照和抗晕CCD的设计和制作=Design and fabricationof low visible light and antiblooming CCD[刊,中]/张坤(重庆光电技术研究.重庆(400060))∥半导体光电.-2003,24(2).-91-93,96针对帧转移可见光CCD低光照响应、抗电晕能力和动态范围,较详细讨论了CCD光响应灵敏度。

主 题 词：动态范围 技术研究 低光照 响应灵敏度 帧转移 弹丸攻角 可见光 半导体 分辨力 光学技术 

学科分类：080903[080903] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 080502[080502] 

馆 藏 号：203296574...