Pyrex玻璃的ICP刻蚀技术研究

作     者：江平 侯占强 彭智丹 肖定邦 吴学忠 JIANG Ping;HOU Zhan-qiang;PENG Zhi-dan;XIAO Ding-bang;WU Xue-zhong

作者机构：国防科技大学机电工程与自动化学院长沙410073 炮兵学院南京分院南京210000 

基　　金：国家自然科学基金项目资助(50375154) 

出 版 物：《传感技术学报》 (Chinese Journal of Sensors and Actuators)

年 卷 期：2008年第21卷第4期

页      码：556-558页

摘      要：以SF6/Ar为刻蚀气体,采用感应耦合等离子体(ICP)刻蚀Pyrex玻璃,研究气体流量、射频功率对刻蚀速率及刻蚀面粗糙度的影响。采用正交实验方法找出优化的实验参数,得到Pyrex玻璃刻蚀速率为106.8nm/min,表面粗糙度为Ra=5.483nm,实验发现增加自偏压是提高刻蚀速率、减小刻蚀面粗糙度的有效方法。

主 题 词：ICP刻蚀 MEMS Pyrex玻璃 实验设计 

学科分类：12[管理学] 1201[管理学-管理科学与工程类] 0808[工学-自动化类] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 0802[工学-机械学] 0811[工学-水利类] 080201[080201] 

核心收录：

D　O　I：10.3969/j.issn.1004-1699.2008.04.005

馆 藏 号：203301840...