新型5×5分束达曼光栅的设计与制作

作     者：周丽 钟青 李劲劲 邢海斌 王雪深 周哲海 王晓玲 Zhou Li;Zhong Qing;Li Jinjin;Xing Haibin;Wang Xueshen;Zhou Zhehai;Wang Xiaoling

作者机构：北京信息科技大学光电测试技术北京市重点实验室北京100192 中国计量科学研究院北京100029 

基　　金：国家自然科学基金资助项目(61475021) 中国计量科学研究院探索性创新项目(31AKYCX170217) 北京信息科技大学勤信学者支持计划资助项目(QXTCP-A201701) 北京信息科技大学2017—2018年度“实培计划”资助项目 

出 版 物：《微纳电子技术》 (Micronanoelectronic Technology)

年 卷 期：2018年第55卷第9期

页      码：677-682页

摘      要：基于理论设计了一种面内旋转对称的新型5×5分束达曼光栅,研究并优化了光栅制作中曝光、显影及深刻蚀等关键工艺参数。采用接触式曝光和感应耦合等离子体（ICP）刻蚀技术,在石英基底上制作出达曼光栅结构。实验中通过优化石英基底上接触式曝光时间和显影时间,较好控制了曝光图形失真;进一步通过控制ICP刻蚀工艺参数,获得了刻蚀深度为（750±10）nm的石英衬底,实现了达曼光栅器件的制备。通过衍射光学特性评测得到了理论设计的零级衍射场均匀分布的5×5点阵,总的衍射效率达到53%,不均匀性仅为0.19%。实验证明了理论设计与工艺技术的可靠性,为达曼光栅器件的集成光学系统应用奠定基础。

主 题 词：达曼光栅 二元光学 光刻 邻近效应 深刻蚀 

学科分类：080903[080903] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 080502[080502] 

D　O　I：10.13250/j.cnki.wndz.2018.09.009

馆 藏 号：203304603...