光栅印制机总体设计与关键技术研究

作     者：张光弢 高有行 李翠敏 

作者机构：西安电子科技大学计算机外部设备研究所陕西西安710071 

出 版 物：《自动化技术与应用》 (Techniques of Automation and Applications)

年 卷 期：2004年第23卷第10期

页      码：57-60页

摘      要：光栅是一种高精度的定位检测技术 ,根据大幅面喷墨绘图机喷墨定位检测技术的需要 ,本文提出了透射式光栅印制机的总体设计思想 ,包括透射式光栅印制机机械设计、电气设计、控制程序设计 ,并对关键技术进行了分析 ,给出了可行性解决方案。

主 题 词：光栅 定位精度 曝光 

学科分类：08[工学] 081101[081101] 0811[工学-水利类] 081102[081102] 

D　O　I：10.3969/j.issn.1003-7241.2004.10.019

馆 藏 号：203316062...