次世代微影术及其非破坏式光学量测系统之研究

作     者：李彦旻 李佳翰 

作者机构：中国台湾大学 

出 版 物：《机械工程学报》 (Journal of Mechanical Engineering)

年 卷 期：2015年第51卷第6期

页      码：26-26页

摘      要：本论文可概分为三部分：1改善用于极紫外光（Extreme ultraviolet,EUV）微影系统之多层膜反射镜之反射率以及其等效计算方法;2开发用于多尺度（multi-scale）电子束直写（Electron-beam directwrite,EBDW）微影系统之数值计算方法;3开发非破坏式光学检测系统用于量测光阻线（photo-resist lines）之几何外形与多层膜彩色滤光片（color filter）之光学性质。对于极紫外光反射镜之研究,我们设计了以40层钼/硅多层膜为基底之光子晶体（photonic crystal）反射镜。

主 题 词：量测系统 滤光片 几何外形 photonic ultraviolet 光学检测 光子晶体 次世代 resist 光学性质 

学科分类：08[工学] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 

核心收录：

馆 藏 号：203320470...