微区微纳米压印技术及设备

作     者：申溯 周雷 魏国军 陈林森 SHEN Su;ZHOU Lei;WEI Guo-jun;CHEN Lin-sen

作者机构：苏州大学信息光学工程研究所江苏苏州215006 

基　　金：苏州市科技计划科技专项资助项目(No.ZXG0802) 

出 版 物：《光学精密工程》 (Optics and Precision Engineering)

年 卷 期：2009年第17卷第4期

页      码：807-812页

摘      要：为了实现在大幅面基底上制作微纳结构，开发了一种新型的分布微区微纳米压印技术和相应的设备。介绍了分布微区微纳米压印的技术设想，并以提高压印稳定性和设计可旋转压印头为目标，设计了气动驱动装置和压印头结构。然后，通过实验检测了平台运动精度，并在碳酸聚酯材料上热压印了周期为400nm的光栅。最后，以背光模组用光扩散片为应用实例．介绍了分布微区微纳米压印技术与设备的可能应用领域。实验结果表明，在1m的行程范围上，平台位移精度可达100nm，压印头旋转角度为-90°～90°，压印深度可由加热温度和驱动力大小控制。制作的扩散片厚度为125μm，扩散半径为5mm。微区微纳米压印技术和设备特别适合大幅面光学衍射图像和平板显示器件的微结构制作。

主 题 词：微纳米压印 微结构 热压印 控制 

学科分类：080903[080903] 0808[工学-自动化类] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 080502[080502] 0702[理学-物理学类] 

核心收录：

D　O　I：10.3321/j.issn:1004-924X.2009.04.018

馆 藏 号：203333032...