O_2分压和退火对TiO_2/SiO_2纳米多层膜结构和光学性能的影响

作     者：张瑞奇 董磊 李德军 刘孟寅 

作者机构：天津师范大学物理与电子信息学院天津300387 

基　　金：天津师范大学实验室改革研究基金(B201107)资助项目 

出 版 物：《光电子．激光》 (Journal of Optoelectronics·Laser)

年 卷 期：2012年第23卷第12期

页      码：2355-2361页

摘      要：利用Mass软件设计了TiO2/SiO2纳米多层光学增透膜膜系,并采用高真空电子束蒸发系统在不同O2分压条件下制备了TiO2/SiO2纳米多层膜,TiO2/SiO2薄膜多层膜体系在沉积条件下获得了很好的宽光谱光学透射性能,在可见光谱范围内透射率接近设计值,平均透射率达到90%以上。通过一系列测试方法对多层膜退火前后的透射率、组分结构和退火以后的残余应力以及表面形貌进行了研究。实验结果表明:在较高O2分压条件下,由于多层膜结构中O空位的减少,使得多层膜透射率逐渐增加。在退火条件下,随着退火温度的增加,导致了表面均方根粗糙度(RMS)的增加以及晶粒的聚集长大,500℃时多层膜组分结晶化明显加强,使得缺陷增多;同时受退火温度的影响,残余应力逐渐增加,组分相互扩散加剧使得多层膜界面受到破坏。这些因素最终导致TiO2/SiO2多层膜的透射率逐渐降低。

主 题 词：O2分压 TiO2 SiO2纳米多层光学增透膜 电子束蒸发 透射率 

学科分类：08[工学] 0803[工学-仪器类] 

核心收录：

D　O　I：10.16136/j.joel.2012.12.002

馆 藏 号：203334662...