看过本文的还看了

相关文献

该作者的其他文献

文献详情 >BST类氧化物铁电薄膜的生长研究 收藏
BST类氧化物铁电薄膜的生长研究

BST类氧化物铁电薄膜的生长研究

作     者:李言荣 张鹰 朱俊 李燕 蒋书文 张万里 杨传仁 

作者机构:电子科技大学微电子与固体电子学院成都610054 

出 版 物:《四川大学学报(自然科学版)》 (Journal of Sichuan University(Natural Science Edition))

年 卷 期:2005年第42卷第S1期

页      码:42-页

摘      要:利用脉冲激光分子束外延(PLMBE)并结合反射式高能电子衍射(RHEED)方法,针对BST类氧化物铁电薄膜的生长机理进行了较为系统的实验研究。通过生长模式、生长相图、弛豫时间等的变化规律提出氧化物薄膜的原胞生长机理,通过原位实时监测生长过程获得~300℃的最低层状晶化温度,通过界面形成的压应力、张应力调控薄膜表面的形貌结构,通过不对称介质超晶格的设计获得高性能的铁电极化强度,通过过渡层技术在Si基片上实现了铁电薄膜取向生长等。

主 题 词:BST 生长机理 

学科分类:08[工学] 080501[080501] 0805[工学-能源动力学] 

核心收录:

馆 藏 号:203341686...

读者评论 与其他读者分享你的观点

用户名:未登录
我的评分