红外光学系统内部热辐射引起的杂散辐射分析

作     者：黄强 钮新华 沈学民 HUANG qiang;NIU Xin-hua;SHEN Xue-min

作者机构：中国科学院上海技术物理研究所上海200083 

出 版 物：《红外技术》 (Infrared Technology)

年 卷 期：2006年第28卷第6期

页      码：348-352页

摘      要：利用LightTools杂散光分析软件,建立一个空间光学系统光学机械结构模型。计算这个系统内部各机械表面辐射能量到达像面的辐射能量的大小,判断出关键表面;通过比较在四种不同的发射率情况下,像面接收到各个表面杂散辐射量的变化规律,得到有用的分析结果来对这个系统提出了初步的措施抑制,并且可以指导其他类似系统的分析和设计。

主 题 词：LightTools 光学系统 热辐射 杂散光抑制 

学科分类：080901[080901] 0809[工学-计算机类] 08[工学] 080401[080401] 0804[工学-材料学] 0803[工学-仪器类] 

D　O　I：10.3969/j.issn.1001-8891.2006.06.010

馆 藏 号：203347437...