基于等效膜层法的极紫外光刻含缺陷掩模多层膜仿真模型

作     者：刘晓雷 李思坤 王向朝 Liu Xiaolei;Li Sikun;Wang Xiangzhao

作者机构：中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室上海201800 中国科学院大学北京100049 

基　　金：国家自然科学基金(61474129 61275207 61205102) 科技部国际科技合作专项项目(2011DFR10010) 

出 版 物：《光学学报》 (Acta Optica Sinica)

年 卷 期：2015年第35卷第6期

页      码：263-271页

摘      要：建立了一个基于等效膜层法的极紫外光刻含缺陷掩模多层膜仿真模型。通过等效膜层法求解含缺陷多层膜无缺陷区域和含缺陷区域不同位置的反射系数,准确快速地仿真含缺陷多层膜的衍射谱。与波导法严格仿真相比,200nm尺寸时仿真速度提高9倍左右。与改进单平面近似模型和基于单平面近似的简化模型相比,该模型对衍射谱和空间像的仿真精度有了较大提高,并且仿真精度随缺陷尺寸和入射角的变化很小。以+1级衍射光为例,6°入射时,与改进单平面近似模型和简化模型相比,该模型对衍射谱振幅的仿真误差分别减小了77%和63%。

主 题 词：光学设计 极紫外光刻 衍射 含缺陷多层膜 等效膜层法 改进单平面近似 

学科分类：0808[工学-自动化类] 070207[070207] 0809[工学-计算机类] 07[理学] 08[工学] 0805[工学-能源动力学] 0803[工学-仪器类] 0702[理学-物理学类] 

核心收录：

D　O　I：10.3788/aos201535.0622005

馆 藏 号：203351286...